清洗剂 - 切削液 - 防锈剂 实力研发定制厂家

一、方案主题

化学机械抛光液（CMP）是近年来处于前端的研磨抛光方式，大致有二氧化硅抛光液，氧化铈抛光液，氧化铝抛光液等等常见材料。当金属材料抛光至镜面效果时，抛光液在物理和化学同时作用下，在基材上面形成顽固的固体残留物。尤其是使用纳米二氧化硅（硅溶胶）抛光过的铝合金高光镜面，在抛光液干涸在基材表面，已经是业界头等清洗难题。远岸金属清洗剂，用水性分散原理，解决行业抛光液残留的棘手问题。

二、设计原则

通过自动化超声波设备，加上远岸抛光液残留水性清洗剂，在不腐蚀材料的基础上，最高效率的批量化清洗镜面材料上的残留抛光液。

三、现场分析

很多研磨抛光加工单位，使用一下不佳的清洗剂，要不是清洗不了抛光液残留物，就是能清洗干净，但金属（铝合金）高光镜面效果被破坏，在没有更合适的办法下，停留在手工清洗高光镜面加工件，效率低下，对员工身体，环境都不利，无法实现现代化生产要求。

四、建议使用远岸金属清洗剂JY-1257，JY-6004有以下优点；

1，环保安全，点火不燃

2，适合规模化生产，超声波设备批量清洗，提高生产效率

3，降低人工成本，清洗剂成本

4，清洗速度快，高光镜面效果保护性好

五 、推荐使用   远岸金属清洗剂  抛光液残留清洗剂1257 6004

六、细则